Etching semiconductor wafer

Numéro d’image : 11894760
Etching semiconductor wafer
MODEL RELEASED. Plasma etching. Technician in clean room clothing holding a semiconductor wafer she is about to etch. The wafer will be placed in the vacuum chamber inside the plasma etcher (silver). A gas,such as bromine,is then pumped into the chamber and a voltage applied to create a plasma (charged gas). The ions of the plasma etch the wafer,to form microchips for example. Photographed at Newcastle University,UK
Licence : Droits gérés
Crédit: Science Photo Library / Cuthbert, Colin
Taille de l’image : 3752 px × 3760 px
Model Release : Disponible
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